Processamento de Amostras
Forno Tipo Mufla Jung
O forno tubular Jung Modelo LF00612 permite controlar rampas de aquecimento e patamares até 1200 °C.
Forno Tipo Mufla Eaustermo
Forno Mufla Exaustermo modelo 8L com capacidade de 6L. Realiza tratamentos Isotérmicos ao ar até 1200 °C.
Forno Tubular Jung
O forno tubular Jung Modelo LT6.1010 permite controlar rampas de aquecimento e patamares até 1000 °C. Pode se ter atmosfera controlada em fluxo de N2 para atmosferas inertes ou mistura gasosa Ar:H2 (98:2) para atmosferas redutoras, durante os tratamentos térmicos.
Sistema de Modificação de SuperfÃcie por Plasma (Plasma Etching)
O Plasma Etching PE-50 XL Venus Benchtop Vacuum Plasma System, promove um ataque por plasma de oxigênio (O2) ou hexafluoreto de enxofre (SF6) para modificação de carga superficial de materiais, transformando as superfÃcies em hidrofóbicas ou hidrofÃlicas, conforme o caso.
Sistema de Pulverização Catódica (Sputtering)
Este sistema é dedicado a deposição de filmes metálicos, tais como Au, Cr, Ti dentre outros elementos. Possui uma microbalança de quartzo para determinação da espessura do filme.
Fresadora Laser
A fresadora a laser Gravograph LS100 corta chapas de acrÃlico de até 2,5 mm de espessura. A geometria dos cortes pode ser determinada através de qualquer programa vetorial.
Impressora 3D
A impressora 3D Ender-5 Pro permite a confecção de peças em plástico que não são vendidas no mercado atendendo as demandas do laboratório.
